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在PLNP纳米抛光过程的第20-50分钟，当抛光电压为360-390V时，粗糙度随时间仍然呈现较为明显的下降趋势，说明经过50分钟的抛光，仍未达到该工艺条件下抛光所能达到的极小粗糙度值。而在其余电压条件下，历经约20分钟的抛光后，粗糙度曲线曲线趋于平稳，说明已经达到PLNP等离子抛光在此工艺条件下极小的粗糙度，当电压为270-330V时，抛光后的极小粗糙度值更低，稳定在0.06-0.08微米。
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