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粗糙度随时间的变化曲线?
来源:中唯精工 | 发布日期: 2022-04-17

在PLNP纳米抛光过程的第20-50分钟,当抛光电压为360-390V时,粗糙度随时间仍然呈现较为明显的下降趋势,说明经过50分钟的抛光,仍未达到该工艺条件下抛光所能达到的极小粗糙度值。而在其余电压条件下,历经约20分钟的抛光后,粗糙度曲线曲线趋于平稳,说明已经达到PLNP等离子抛光在此工艺条件下极小的粗糙度,当电压为270-330V时,抛光后的极小粗糙度值更低,稳定在0.06-0.08微米。

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