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PLNP®技术新突破——零部件微孔抛光
来源:中唯精工 | 发布日期: 2020-11-10

PLNP®技术是一种金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3nm,处理深度为0.3-1.5nm。抛光物的表面粗糙度在20nm—1mm范围内,因此等离子液体纳米抛光处理可以化学活化工件表面,去除表面分子污染层。等离子也称为物质的第四态,是一种电磁气态放电现象,使气态粒子部分电离,这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下,抛光剂水溶,但是在高温高压下,电子会脱离原子核而跑出来,原子核就形成了一个带正电的离子,当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态,等离子态能量很大,当这些等离子和要抛光的物体摩擦时,顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。

近期,中唯精密工业有限公司利用PLNP®技术实现了零部件的微孔抛光。

零部件微孔抛光前后对比照片:

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产件抛光后产品优点:提高表面光洁度,达到近镜面效果,延长使用寿命;

PLNP®技术专业解决碳钢、不锈钢、高温合金、铜合金、铝合金、钛合金等材质零部件的表面清洗、毛刺清理与镜面抛光。

中唯精工具备的独特优势:

1、半封闭腔体内表面抛光技术;

2、高温合金等材料抛光技术;

3、直径≥Φ0.3mm×长度1000mm细长孔及内流道的内表面抛光技术;

4、针对大型工件实施的特种抛光技术。

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